德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)及清洗注意事項
時間:2016-10-21 13:54:14作者:LeeZhou來源:德高潔清潔設(shè)備分享到:QQ空間新浪微博騰訊微博人人網(wǎng)微信
目前,隨著光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,對多晶硅的需求量也日趨增大。在多晶硅生產(chǎn)設(shè)備中,還原爐是整個生產(chǎn)系統(tǒng)的關(guān)鍵部件,多晶硅生產(chǎn)企業(yè)要實現(xiàn)節(jié)能降耗就必須嚴(yán)格把控還原爐的運行。
眾所周知,對還原爐內(nèi)壁進(jìn)行清洗處理,就是降低能耗的一種有效的方式,通過提高還原爐內(nèi)壁光潔度及光亮度,使還原爐在硅棒生長過程中,爐壁在高溫狀態(tài)下,對熱輻射反射率的最大化,從而起到降低能耗的作用。
德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)是以高壓清洗機為主機,以高壓水射流為動力的自驅(qū)動三維旋轉(zhuǎn)噴頭形成360°的網(wǎng)狀高壓水柱噴射表面,從而完成鐘罩內(nèi)部表面的水力掃射,并采用專用清洗劑等為主要清洗液,先用純水(去離子水或叫脫鹽水)漂洗,之后再采用高純水沖洗,最終完成清洗過程。
一、工作流程
還原爐鐘罩到位—預(yù)清洗—清洗劑(堿液)清洗—漂洗—高純水沖洗—凈化熱空氣干燥—常溫干燥—鐘罩吊走。
二、系統(tǒng)特點
1、德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)采用進(jìn)口高壓泵,耐酸堿、耐高溫。清洗作業(yè)時三維旋轉(zhuǎn)噴頭實現(xiàn)自驅(qū)動旋轉(zhuǎn)、自動升降、全方位自動清洗,保證多晶硅的純度;
2、設(shè)置10萬級空氣凈化換熱裝置代替原氮氣電加熱干燥還原爐體工藝;
3、自行研發(fā)設(shè)計的自驅(qū)動旋轉(zhuǎn)升降噴射機構(gòu),一套系統(tǒng)實現(xiàn)多種型號還原爐鐘罩的清洗烘干;
4、由于清洗過程中會有氫氣和酸性物質(zhì)產(chǎn)生,德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)采用全封閉式清洗裝置可完美解決二次污染;
5、德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)充分利用資源,設(shè)計了高壓堿液和清水的供給和分開回收裝置,并進(jìn)行凈化使后序清洗水用于前序的漂洗工序;利用多晶硅生產(chǎn)廠家的蒸汽余熱將清洗介質(zhì)加熱,從而改變原電加熱工藝。
三、注意事項
多晶硅還原爐內(nèi)的殘留物及清洗液具有腐蝕性,同時清洗中殘留氯硅烷會發(fā)生水解伴有氫氣產(chǎn)生,容易產(chǎn)生爆鳴燃燒。因此,現(xiàn)場操作中,需要做好安全防護(hù)措施。
1、清洗過程中必須穿戴好勞保用品,戴防護(hù)手套;
2、用氫氧化鈉溶液擦洗基盤時操作要緩慢,以免摩擦生熱引起著火;
3、基盤清洗過程中要避免溶液流進(jìn)進(jìn)料管和尾氣管內(nèi)造成二次污染,德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)采用全封閉式清洗裝置可完美解決二次污染的問題;
4、清洗中要保證將鐘罩烘烤干,避免有殘留水分;
5、清洗劑的選擇對清洗效果和作業(yè)安全有直接影響,這方面我公司積累了豐富的實踐經(jīng)驗解決閃爆等問題。
眾所周知,對還原爐內(nèi)壁進(jìn)行清洗處理,就是降低能耗的一種有效的方式,通過提高還原爐內(nèi)壁光潔度及光亮度,使還原爐在硅棒生長過程中,爐壁在高溫狀態(tài)下,對熱輻射反射率的最大化,從而起到降低能耗的作用。
德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)是以高壓清洗機為主機,以高壓水射流為動力的自驅(qū)動三維旋轉(zhuǎn)噴頭形成360°的網(wǎng)狀高壓水柱噴射表面,從而完成鐘罩內(nèi)部表面的水力掃射,并采用專用清洗劑等為主要清洗液,先用純水(去離子水或叫脫鹽水)漂洗,之后再采用高純水沖洗,最終完成清洗過程。
一、工作流程
還原爐鐘罩到位—預(yù)清洗—清洗劑(堿液)清洗—漂洗—高純水沖洗—凈化熱空氣干燥—常溫干燥—鐘罩吊走。
二、系統(tǒng)特點
1、德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)采用進(jìn)口高壓泵,耐酸堿、耐高溫。清洗作業(yè)時三維旋轉(zhuǎn)噴頭實現(xiàn)自驅(qū)動旋轉(zhuǎn)、自動升降、全方位自動清洗,保證多晶硅的純度;
2、設(shè)置10萬級空氣凈化換熱裝置代替原氮氣電加熱干燥還原爐體工藝;
3、自行研發(fā)設(shè)計的自驅(qū)動旋轉(zhuǎn)升降噴射機構(gòu),一套系統(tǒng)實現(xiàn)多種型號還原爐鐘罩的清洗烘干;
4、由于清洗過程中會有氫氣和酸性物質(zhì)產(chǎn)生,德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)采用全封閉式清洗裝置可完美解決二次污染;
5、德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)充分利用資源,設(shè)計了高壓堿液和清水的供給和分開回收裝置,并進(jìn)行凈化使后序清洗水用于前序的漂洗工序;利用多晶硅生產(chǎn)廠家的蒸汽余熱將清洗介質(zhì)加熱,從而改變原電加熱工藝。
三、注意事項
多晶硅還原爐內(nèi)的殘留物及清洗液具有腐蝕性,同時清洗中殘留氯硅烷會發(fā)生水解伴有氫氣產(chǎn)生,容易產(chǎn)生爆鳴燃燒。因此,現(xiàn)場操作中,需要做好安全防護(hù)措施。
1、清洗過程中必須穿戴好勞保用品,戴防護(hù)手套;
2、用氫氧化鈉溶液擦洗基盤時操作要緩慢,以免摩擦生熱引起著火;
3、基盤清洗過程中要避免溶液流進(jìn)進(jìn)料管和尾氣管內(nèi)造成二次污染,德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)采用全封閉式清洗裝置可完美解決二次污染的問題;
4、清洗中要保證將鐘罩烘烤干,避免有殘留水分;
5、清洗劑的選擇對清洗效果和作業(yè)安全有直接影響,這方面我公司積累了豐富的實踐經(jīng)驗解決閃爆等問題。
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